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  • EUV和DUV光刻机有什么区别？ - 知乎
    无论是EUV还是DUV技术，它们都在推动着半导体行业不断向前发展。 EUV以其高分辨率的优势，为芯片制造带来了前所未有的可能性；而DUV则以其成熟稳定的特性，确保了大部分芯片制造的正常进行。
  • DUV lithography systems | Products - ASML
    ASML's deep ultraviolet (DUV) lithography systems dive deep into the UV spectrum to print the tiny features that form the basis of the microchip
  • 冷静看待国产光刻机：5台设备交付，离挑战ASML还有多远？
    光刻设备是其中最明显的短板之一。 另一方面，中国晶圆厂已经积累了大量进口DUV设备。 美国企业研究所2026年的报告估算，中国客户在2024年购买了ASML全球约70%的浸没式DUV设备，可能接近90台。 这些进口设备成为中国制造7纳米级芯片的重要基础。
  • DUV和EUV到底差在哪？ - 知乎
    这是很多人容易混但又特别重要的问题。 DUV 和 EUV 都是光刻，但从光的波长、整个光学系统、到能做的芯片，几乎是两套完全不同的技术。 一、最根本的差异：波长DUV（深紫外，Deep Ultraviolet）：主流波长 248nm（K…
  • 深紫外光刻_百度百科
    深紫外光刻（Deep Ultraviolet Lithography, DUV）是一种利用波长在100纳米到300纳米范围内（尤其在半导体光刻中特指193纳米波长）的深紫外光进行亚微米级图形加工的光刻技术。
  • 深紫外光（Deep Ultraviolet, DUV）和极紫外光（Extreme Ultraviolet, EUV）详解
    深紫外光（DUV）和极紫外光（EUV）是光刻技术重要光源，对芯片微缩和性能提升至关重要。 DUV波长200 - 300纳米，常用于主流工艺；EUV波长10 - 14纳米，适用于5纳米及以下节点。 文章介绍了两者工作原理、优缺点，对比了二者，还展望了EUV未来前景。
  • DUV lithography for chip manufacturing | ZEISS SMT
    DUV lithography optics from ZEISS SMT can be used to manufacture microchip structures of 40 nanometers for the semiconductor industry DUV means "deep ultraviolet light"
  • DUV vs EUV: Wavelength, Lithography Detection Differences
    Deep ultraviolet (DUV) is the short-wavelength ultraviolet region that semiconductor fabs rely on every day DUV lithography and inspection tools are built around the KrF (248 nm) and ArF (193 nm) excimer-laser wavelengths, and DUV metrology remains the workhorse for high-precision wafer inspection and process control
  • Ultra Marathon Statistics - DUV
    The statistics team of the DUV presents here a results database containing at the moment 10'828'575 performances of 2'602'251 runners achieved in 122'682 ultramarathon events
  • 长鑫科技DRAM技术路线深度解析——从17nm DUV多重曝光到LPDDR6国产突破 - 0xfisher - 博客园
    三、DUV多重曝光工艺深度剖析：长鑫绕开EUV的核心武器 EUV（极紫外，13 5nm 波长）光刻机受出口管制限制，长鑫无法获取。 其 17nm 级节点完全依赖 ArFi（氩氟 immersion，193nm 波长浸没式）DUV 光刻机配合多重曝光技术。 理解多重曝光，是理解长鑫技术路线的全部关键。





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